深紫外光（DUV）作为一种重要的光源，在半导体制造、材料分析等领域发挥着关键作用。以下将详细介绍深紫外光及其相关内容。
深紫外光指的是波长在200纳米到300纳米范围内的紫外光。这一波段的紫外光在传统半导体光刻技术中被广泛应用。最常见的深紫外光源是基于氟化氩（ArF）的激光器，其波长为193纳米。这种激光器通常用于当前主流的半导体制造工艺，如28纳米、14纳米、10纳米工艺节点。
波长λ，作为紫外光谱图的横坐标，犹如一把探索物质世界的钥匙。它揭示了物质对光吸收的选择性特性，即物质只会吸收特定波长的光，而对其他波长的光则“视而不见”。这种选择性吸收的特性，使得我们可以通过观察光谱图中吸收峰的位置，来窥探物质的结构与性质。
以苯环为例，其紫外吸收峰通常位于260nm左右。这是因为苯环的结构决定了它对特定波长的紫外光有较强的吸收能力。
在挑选紫外灯时，应综合考虑多个因素，以确保选购到最适合实验室需求的紫外灯。紫外线波长是一个关键考量指标。紫外线可细分为短波紫外线（UVC，波长范围100-280nm）、中波紫外线（UV，波长范围280-315nm）和长波紫外线（UVA，波长范围315-400nm）。根据不同的应用需求，选择合适的波长范围至关重要。
DUV光刻机是利用深紫外光源进行半导体制造的设备。EUV光刻机使用极紫外光源，由于其波长极短，能够实现更高的分辨率。EUV光刻机可以制造更精细的半导体器件，是半导体制造领域的重要发展方向。
紫外线吸收剂是应用最广的一类光稳定剂，按其结构可分为水杨酸酯类、二苯甲酮类、苯并三唑类、三嗪类等。工业上应用最多的为二苯甲酮类和苯并三唑类。这些吸收剂可以有效地吸收紫外线，保护材料免受紫外线损伤。
匹配滤光片是根据荧光标记物的发射波长来选择的。标配的进口590nm滤光片适用于特定荧光染料。若使用其他荧光标记物，需选配相应滤光片，确保只让目标波长的光线进入成像系统，提高成像效果。
紫外线波段（UV）的波长范围约为280~315纳米。它对机体的代谢过程具有调节作用，能够增强免疫力，并刺激组织再生和上皮愈合。
紫外线C波段（UVC）的波长范围约为100~280纳米。在大气层中，UVC波段的紫外线被大部分吸收，因此很少到达地表。UVC光具有强烈的杀菌消毒作用，在医疗、食品加工等领域有着广泛应用。
使用强脉冲光治疗红血丝时，肤色较浅者选择较短波长（如560nm）治疗，而肤色较深者选择较长波长（如590nm）治疗。直径大的血管选择长脉宽，治疗终点反应为即刻血管颜色加深；细小血管则选择较短脉宽，以获得更好的治疗效果。